鼎伟科研专用金锗溅射靶材 金钯合金靶材 金锡合金靶材
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鼎伟科研专用金锗溅射靶材 金钯合金靶材 金锡合金靶材
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金钯合金靶材,金锡合金靶材,金锗溅射靶材
一种金锗合金溅射靶材及其制备方法,该方法包括如下步骤:
1.以金、锗金属为原料,利用真空感应熔炼和真空铸造获得共晶或亚共晶成分的金锗合金铸锭;其中,合金铸锭中锗含量为2wt.%~12.5wt.%,余量为金;
2.利用加热炉对步骤1获得的合金铸锭进行均匀化热处理;均匀化热处理温度为270~340℃,时间为50~65min;
3.利用塑性加工设备将铸锭沿厚度方向进行热塑性加工;
4.每完成1~2道次加工将坯料于加热炉进行回火热处理,温度为270~340℃,时间为10~30min;
5.重复3、4步骤,直到所需的靶坯尺寸。通过此种方法获得的金锗合金溅射靶材成分均匀,显微组织主要由Au的固熔体和弥散分布的块状Ge相组成
鼎伟新材料专业提供贵金属:金、银、铂、钌、铑、钯、锇、铱靶材蒸发颗粒 贵金属合金靶材
规格:(平面圆靶,方靶,台阶靶均可加工,规格按客户要求定做)薄0.1MM
QQ:2403641893 肖斌18681059472 0769-88039551
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