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晋宇达|步进光刻机|张家港步进光刻机

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丁桃宝
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晋宇达|步进光刻机|张家港步进光刻机
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张家港晋宇达电子科技有限公司 光刻胶污染掩膜板;掩膜板的磨损,容易损坏,寿命很低(只能使用5~25次);容易累积缺陷;上个世纪七十年代的工业水准,已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了,国产光刻机均为接触式曝光,国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。 张家港晋宇达电子科技有限公司 投影式曝光(Projection Printing):在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移 优点:提高了分辨率;掩膜板的制作更加容易;掩膜板上的缺陷影响减小。 投影式曝光分类: 扫描投影曝光(Scanning Project Printing)。70年代末~80年代初,〉1μm工艺;掩膜板1:1,全尺寸; 张家港晋宇达电子科技有限公司 光刻机曝光度a.接触式曝光(Contact Printing):掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单。接触式,根据施加力量的方式不同又分为:软接触,硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住(类似于匀胶机的基片放置方式),掩膜盖在基片上面;2.硬接触 是将基片通过一个气压(氮气),往上顶,使之与掩膜接触;3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气,使之更加好的贴合(想一想把被子抽真空放置的方式)
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