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新型硬铬电镀工艺HC-100硬铬电镀添加剂是高新技术和创造思维的结晶,完全不同与常规镀铬和普通混合型催化剂镀铬工艺,HC-100工艺操作简单,补给水单一添加,镀液维护方便。
一、工艺特点:
1.阴极电流效率高,可达23-25%
2.沉积速度快,是一般普通电镀铬的2-3倍
3.无阴极低电流区腐蚀
4.镀层平滑,结晶细致光亮
5.高镀层硬度,可达HV900-1150
6.微裂纹可达400-600条/厘米
7.镀层厚度均匀,无高电流区沉积过厚
8.可使用高电流密度,可达90安培/平方分米
9.镀液维护简单,操作容易
10.无阳极腐蚀,不需采用特殊阳极
11.无固体添加之铭尘和溅水现象
二、镀液配方和操作工艺:
铬酐(克/升):一般零件210-250;活塞环165-190
硫酸(克/升):一般零件2.4-3.5;活塞环1.8-2.1
温度(℃) :一般零件55-60;活塞环55-60
阴极电流密度(安培/平方分米) :一般零件30-75;活塞环30-75
阳级电流密度(安培/平方分米) :一般零件15-35;活塞环15-35
三、镀液配制:
一般零件:100升镀液加2升HC-100
活塞环:100升镀液加1.45升HC-100
1.清洗槽子
2.注入一半体积去离子水
3.加入所需量的铬酐
4.添加所需量的HC-100
5.加入去离子水、调节至规定液面
6.加热至55-60℃
7.分析硫酸浓度,调整至规定工艺范围
8.电解4小时
9.加入适宜的铬雾抑制剂
10.试镀
四、沉积速度:
阴极电流密度(安培/平方分米) 30时沉积速度(微米/小时)为20-30
阴极电流密度(安培/平方分米) 45时沉积速度(微米/小时)为40-50
阴极电流密度(安培/平方分米) 60时沉积速度(微米/小时)为50-70
阴极电流密度(安培/平方分米) 75时沉积速度(微米/小时)为70-90
五、设备:
镀槽:铁槽内衬软PVC或其它认可材料。
阳极:含锡7%铅锡阳极或其它认可材料。
整流器:输出电压可达9-16伏较适宜,输出电流波纹率在5%以下。
温度控制:采用热交换器或冷却管,建议采用钛管或金属披覆聚四氟乙烯。
六、转缸及前处理:
传统的硬铬液转为HC-100工艺简单,将镀液送交本厂化验。
确认无机杂质小于7.5克/升,同时不含氟化物即可,HC-100工艺的前处理同一般传统镀铬相同无需特殊处理。
七、槽液维护:
HC-100用于槽液之补充添加,按每千安培小时补充4-6毫升。
一、工艺特点:
1.阴极电流效率高,可达23-25%
2.沉积速度快,是一般普通电镀铬的2-3倍
3.无阴极低电流区腐蚀
4.镀层平滑,结晶细致光亮
5.高镀层硬度,可达HV900-1150
6.微裂纹可达400-600条/厘米
7.镀层厚度均匀,无高电流区沉积过厚
8.可使用高电流密度,可达90安培/平方分米
9.镀液维护简单,操作容易
10.无阳极腐蚀,不需采用特殊阳极
11.无固体添加之铭尘和溅水现象
二、镀液配方和操作工艺:
铬酐(克/升):一般零件210-250;活塞环165-190
硫酸(克/升):一般零件2.4-3.5;活塞环1.8-2.1
温度(℃) :一般零件55-60;活塞环55-60
阴极电流密度(安培/平方分米) :一般零件30-75;活塞环30-75
阳级电流密度(安培/平方分米) :一般零件15-35;活塞环15-35
三、镀液配制:
一般零件:100升镀液加2升HC-100
活塞环:100升镀液加1.45升HC-100
1.清洗槽子
2.注入一半体积去离子水
3.加入所需量的铬酐
4.添加所需量的HC-100
5.加入去离子水、调节至规定液面
6.加热至55-60℃
7.分析硫酸浓度,调整至规定工艺范围
8.电解4小时
9.加入适宜的铬雾抑制剂
10.试镀
四、沉积速度:
阴极电流密度(安培/平方分米) 30时沉积速度(微米/小时)为20-30
阴极电流密度(安培/平方分米) 45时沉积速度(微米/小时)为40-50
阴极电流密度(安培/平方分米) 60时沉积速度(微米/小时)为50-70
阴极电流密度(安培/平方分米) 75时沉积速度(微米/小时)为70-90
五、设备:
镀槽:铁槽内衬软PVC或其它认可材料。
阳极:含锡7%铅锡阳极或其它认可材料。
整流器:输出电压可达9-16伏较适宜,输出电流波纹率在5%以下。
温度控制:采用热交换器或冷却管,建议采用钛管或金属披覆聚四氟乙烯。
六、转缸及前处理:
传统的硬铬液转为HC-100工艺简单,将镀液送交本厂化验。
确认无机杂质小于7.5克/升,同时不含氟化物即可,HC-100工艺的前处理同一般传统镀铬相同无需特殊处理。
七、槽液维护:
HC-100用于槽液之补充添加,按每千安培小时补充4-6毫升。
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