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专业定制扩散炉,供应厂家--青岛晨立

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扩散炉主要满足半导体电力电子器件行业、大功率集成电路等行业,对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。      
扩散炉技术指标:   可处理硅片尺寸:28英寸   外型形式:卧式14管结构   工作温度:200℃1300℃   
恒温区长度及精度:200mm100mm±0.5℃   
单点温度稳定性、重复性:±1.5℃/24h   温度斜变:可控升温速率20℃/min,   可控降温速率:5℃/min  
送片装置:全自动悬臂推拉舟、拉杆是推拉舟、手动推拉   
气路系统:15路工艺气体/管   
气体控制:全自动MFC、手动浮子流量计   
控制方式:工控机、触摸屏方式操作。 

型号:CL系列 类型:其他 
加工定制:是 用途:扩散、氧化、退火、合金等工艺 
机架材质:方管 工作台板材质:不锈钢板 
工作台尺寸:2100*750(mm) 

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